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电子气体混合气体分类

序号No.	Electron gas mixture summary
1	二氯硅烷（DCS)5000ppm + N2；二氯硅烷（DCS) 15ppm + N2
2	二氯硅烷（DCS)10 ppm + 三氯硅烷(TCS)10 ppm + 氦He
3	HCl 50ppm + 二氯硅烷（DCS)1000ppm + 平衡He
4	硅烷（H4Si）1% + 二氯硅烷（DCS)1% + 三氯硅烷(TCS)1% + 四氯化硅Cl4Si 1% +N2
5	硅烷（H4Si）50ppm + 三氯硅烷(TCS)1000ppm + He
6	三氯硅烷(TCS) 15ppm + N2
7	乙硅烷(Si2H4） 100ppm ～ 200ppm + H2
8	乙硅烷 10ppm + He
9	CO2 5ppm+硅烷（H4Si）135ppm + 乙硅烷 (Si2H4）1000ppm + He
10	SiH4 5ppm～15%+Ar(H2/N2/He)
11	H2 5ppm + Ar 5ppm +N2 5ppm +CO 5ppm + CH4 5ppm + CO2 5ppm + 硅烷（H4Si）1000ppm 的平衡He
12	乙硼烷（B2H6） 50～100ppm + H2
13	砷烷（AsH3） 100ppm～0.7% + H2
14	锗烷（GeH4） 1%～10% + H2
15	三氯化硼（BCl3）1%～5% + N2（He）
16	PH3 0.8ppm ～ 500ppm + He(H2)
17	HCl 9ppm～50% + N2
18	NF3 99.99% 180g～1500g
19	NF3 20ppm～30ppm + Air
20	NF3 15ppm + N2
21	CF4 80% + O2
22	Ar 5ppm～80% + Ne（H2/He/N2）
23	Kr 8%～50% + Ar
24	Ne 80%～97% + Ar

产品应用

也用于半导体制造过程化学汽相淀积、晶体生长、热氧化、epitSome气体可直接用作半导体的来源,如硅源、硼源、磷源和化学气相沉积(CVD)的来源。axy、扩散、多晶硅、钨酸离子注入,载流子,烧结等。

在大规模集成电路(LSI),超大规模集成(VLSI)、半导体和电子设备生产加工过程,电子气体主要用于气相外延生长,化学气相沉积、掺杂(杂质扩散)、蚀刻、离子注入、溅射、退火、系统压力,清洁清洗、吸覆盖、氧化和还原过程。

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售后服务&物流服务

本公司配备有各类产品的专业危化运输车辆，拥有一支作风优良、技术过碩、作业规范的物流队伍，构建了完善的国内外物流配送体系，可以充分满足客户安全及时的配送需求。
多年来公司坚持以信息化的手段推进物流管理，对车辆及供气设施进行24小时全程监控，运输服务人客户订单-运送分配-在途管理-到达现场均能在线监管，给予客户最优质的运输服务。

一、售后服务

1、遵守合同约定,保证产品质量及技术要求顺利履行。
2、确保交付至客户手中的产品三证齐全:合格证 COA MSDS。
3、若交付的产品有任何的质量问题我们无条件退换货。

二、物流服务

1、国内专业运输物流服务自有危险化学品专用运输车队与十多家大型专业危险化学品物流公司长期合作，服务路线遍至全国，保证送货上门，承诺服务到家。
2、国际专业运输物流服务产品出口证件齐全，与多家危险化学学品国际物流公司合作，提供多种运输方式:国际海运、国际铁路、国际道路运输等。承诺服务务到港，满足全球客户需求。

电子混合气-Electron mixture gas

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