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Monday to Friday: 9AM - 6PM
CAS No. | 7783-54-2 |
UN No. | 2451 |
EINECS No. | 232-007-1 |
Molecular weight | 71.0019 |
Appearance | colourless, odourless |
Melting point | -206.79℃ |
Boiling point | -129.0℃ |
Density | 2.96kg/m3 |
DOT Class | 2.2 & 5.1 |
Label | Non-flammable Gas, Oxidizing Agent |
三氟化氮是用作氟化氢-氟化气高能化学激光器的氟源,在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分(约25%)可以以激光辐射释放出,所HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,对硅和氮化硅蚀刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性,而且对表面无污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中,三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留任何残留物,同时也是非常良好的清洗剂。
用于氟化氢和氟化氘激光,这是化学激光的一种。
良的等离子蚀刻气体。
Specification | 99.99% |
---|---|
Carbon Tetrafluoride | ≤40 ppm |
Nitrogen | ≤10 ppm |
Oxygen+Argon | ≤5 ppm |
Carbon Monoxide | ≤1 ppm |
Carbon Dioxide | ≤3 ppm |
Nitrous Oxide | ≤3 ppm |
Sulfur Hexafluoride | ≤3 ppm |
Moisture | ≤1 ppm |
Express as HF | ≤1 ppm |
Specification | 99.996% |
---|---|
Carbon Tetrafluoride | ≤20 ppm |
Nitrogen | ≤5 ppm |
Oxygen+Argon | ≤3 ppm |
Carbon Monoxide | ≤1 ppm |
Carbon Dioxide | ≤0.5 ppm |
Nitrous Oxide | ≤1 ppm |
Sulfur Hexafluoride | ≤2 ppm |
Moisture | ≤1 ppm |
Express as HF | ≤1 ppm |
Cylinder Capacity | Valve | Weight |
---|---|---|
10L | DISS640 | 4 kgs |
47L | DISS640 | 20 kgs |
440L | DISS640 | 195 kgs |
本公司配备有各类产品的专业危化运输车辆,拥有一支作风优良、技术过碩、作业规范的物流队伍,构建了完善的国内外物流配送体系,可以充分满足客户安全及时的配送需求。
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