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四川省成都市高新区天府大道北段1700号
Work Hours
Monday to Friday: 9AM - 6PM
CAS NO | 75-73-0 |
UN NO | 1982 |
EINECS NO | 200-896-5 |
Molecular weight | 88 |
Appearance | Colorless, Odorless |
Melting point | -184 ℃ |
Boiling point | -128.1 ℃ |
Density | 3.72 kg/m³ |
DOT Class | 2.2 |
Label | Non-flammable Gas |
四氟化碳,又名四氟甲烷,化学式为CF4,它既可以被视为一种卤代烃(有机物),也可以被视为一种无机化合物,常温常压下为无色气体,不溶于水,溶于苯和氯仿,主要用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体、低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。
它是最常用在微电子工业等离子体蚀刻气体。
四氟化碳高纯气体和四氟化碳高纯气体的混合物和高纯氧可广泛用于蚀刻硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨薄膜材料。
也广泛应用于电子设备的表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检查,除污剂在印刷电路板生产。
Specification | 99.999% |
---|---|
Oxygen + Argon | ≤ 1 ppm |
Nitrogen | ≤ 2 ppm |
Hydrogen | ≤ 0.3 ppm |
Carbon Monoxide | ≤ 0.3 ppm |
Carbon Dioxide | ≤ 0.3 ppm |
Sulfur Hexafluoride | ≤ 0.3 ppm |
THC | ≤ 0.3 ppm |
Trifluoromethane | ≤ 0.3 ppm |
OFC | ≤ 1 ppm |
Moisture | ≤ 1 ppm |
Acidity as HF | ≤ 0.1 ppm |
Cylinder Capacity | Valve | Weight |
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47L | CGA580 | 30kgs |
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